か行
| 加工変質層 | 水晶を研磨や切断する際、水晶片に発生する小さなヒビなどの加工歪。 |
|---|---|
| カットオフ特性 | モアレを発生させる空間周波数の遮断特性 |
| 機械加工 | 切削工具や工作機械を用いて、水晶を加工し目的の形状・寸法にすること。研磨も機械加工の一種である。 |
| 帰還抵抗Rf | DCバイアス用の帰還抵抗は、低域のカットオフ特性を決定する定数の１つです。一般的にkHz帯の発振には10MΩ、MHz帯の発振には1MΩを使用します。ただし、オーバトーン発振が目的の場合には、kΩオーダーの抵抗が使用される場合があります。 |
| 起動時間 | 発振器の電源電圧が立ち上がってから出力振幅が規格に達するまでの時間 |
| 基本波水晶振動子 | 所定の振動モードで最も低い次数(1st)で発振するように設計された水晶振動子。 |
| 逆圧電現象 | 圧電現象とは逆に、結晶体に電場をかけるとひずみが生じる現象のこと。リップマンがその存在を予測しており、キュリー,J.とキュリー,P.が実証した。 |
| キャップ | セラミックや金属で作られた水晶片を保護するためのカバー。 |
| 屈曲振動 | 周波数が素板の寸法で決まる振動モード。 |
| 群遅延時間偏差 | 通過帯域内の群遅延時間の最大値と最小値の差をいいます。 |
| 結合容量 | ４Ｐｏｌｅ型フィルタの場合、素子間の接合部分の容量をいいます。 |
| ケミカル加工 | 機械で行っていた水晶片の加工を、化学溶液を用いて化学的に研磨・加工する方法。 |
| 減衰帯域幅 | 相対減衰量が規定値に等しいかそれ以上であることを保証する値での周波数の間隔をいいます。 |
| 研磨 | 水晶片を研削し磨くこと。仕上げ精度によりポリッシュなどの精密仕上げを行なう。 |
| 光学擬似信号 | 撮像素子で格子縞など写すと発生する、色むらや縞模様などの本来存在しない信号。偽信号、モアレと呼ぶこともある。 |
| 光学軸 | 複屈折性結晶で複屈折の起きない方向の軸 |
| 光学水晶基板 | 水晶の持つ熱伝導率特性を使った放熱用透明基板 |
| 光学ローパスフィルタ | 空間周波数の高周波成分を除去するフィルタ。カラー撮像素子を使用したデジタルスチルカメラやカムコーダなどの光学擬似信号を除去するもの。 |
| 公称周波数 | 中心周波数の公称値。 |
| 高調波 | 発振器出力において、出力周波数以外の高次周波数成分 |
| コンベックス加工 | 水晶片の振動エネルギーのもれを防ぐ（振動エネルギーを中央部に閉じ込める）ため、水晶片の端を中央部より薄くする加工方法で、水晶片を円弧状の曲面に形成する加工である。他に中央部を平坦にするベベル加工がある。 |
